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痕量檢測我們可以用哪種分析儀器
發(fā)布時間：2022-09-02 09:13:04 點擊：3397
對于痕量檢測，你了解多少？痕量檢測（trace analysis），是一種對樣品中待測組分含量低于百萬分之一的分析方法。適合進行痕量檢測的儀器都有哪些？
目前，用于痕量物質檢測的儀器主要有原子吸收分析儀（AAS）、石墨爐原子吸收分析儀（GF-AAS）、電感耦合高頻等離子體發(fā)射光譜儀（ICP-AES）、電感耦合高頻等離子質譜儀（ ICP-MS）、波長色散（WDXRF）和能量色散（EDXRF）X射線熒光光譜分析儀?？勺龊哿繖z測的以上幾種儀器，在分析痕量物質時也有各自的優(yōu)勢，一般單位會根據(jù)自己需求進行選擇。
AAS分析儀使用成本低，對專業(yè)技術要求低，光譜干擾少。但人工調試項目多，當基體成分復雜時，測試精度低。GF-AAS分析儀常規(guī)工作可無人自動操作，光譜干擾少，基體干擾多，樣品需能完全氣化。ICP-AES分析能力強，溶液分析精度高，基體干擾少，可測元素多，但該儀器只能檢測溶液。ICP-MS儀測試精度高，分析能力較前者更強，能進行同位素分析，樣品也需制成溶液。ICP儀都能進行半定量分析，但當測試高濃度物質時需稀釋溶液，再折算到原樣品濃度的含量，ICP的測試誤差被同時放大，這大大降低了測試精度。但對于工廠的大規(guī)模生產(chǎn)而言，以上這些儀器因為制樣周期長，并不適合。
X熒光光譜儀與ICP光譜儀
WDXRF 和EDXRF儀測試精度較ICP低一些，分析能力較ICP強一些，但它可直接對塊狀、液體、粉末樣品進行測試，亦可對小區(qū)域進行分析，還可分析鍍層和薄膜，樣品制備簡單，分析時間短，分析精度能滿足工廠生產(chǎn)的需要，很合適工廠大規(guī)模生產(chǎn)。它的弱點是存在光譜干擾，特別是樣品中同時存在光譜干擾的幾個元素時，XRF就很難辯別這幾個元素。
痕量檢測作為地球化學、材料科學、生物醫(yī)學、環(huán)境科學、表面科學以及罪證分析等領域重要的檢測方法，根據(jù)自身實際需求，選擇合適的檢測儀器。上一篇：直讀光譜儀該如何正確檢測低碳材料 下一篇：直讀光譜儀的譜線強度是怎么決定的
